一、行業簡介
        半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示（shì）、高精度（dù）線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業（yè）、大規模、超大規模集成電（diàn）路需（xū）用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為（wéi）五個行（háng）業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區（qū）分不同水質。
二、應用（yòng）範圍
1、電子、電（diàn）力、電鍍、照明電器、實（shí）驗室、食品、造紙、日化、建（jiàn）材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥（yào）、石油、化工、鋼（gāng）鐵、玻璃（lí）等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造、半導體芯片、半導體封裝（zhuāng） 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔淨產品及各（gè）種元器件等生（shēng）產工（gōng）藝用純（chún）水。
三、工藝簡介
1、係統模塊化設計，共分四部分：預處理係統、反滲透係統（tǒng）、EDI係統、終端供（gòng）水係統。
2、預處理係統（tǒng）主（zhǔ）要用來去（qù）除原水中的懸浮物、濁度（dù）、色度、膠體以及部分有機物，保證產水（shuǐ）符合反滲透係統的進水水（shuǐ）質要求。
3、反滲透係統主要用來去除原水中溶解性鹽類物質、細菌、熱源（yuán）等，保證產水符合EDI係（xì）統進（jìn）水水質要求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進行進一步（bù）脫除溶解性的小分子（zǐ）鹽類物質，產水達到電阻（zǔ）率達到（dào）15MΩ.cm以上。
5、終端供水係統主要是用來將合格（gé）水（shuǐ）輸送至用水點，輸送過程中對EDI產（chǎn）生進行最後的離子交換（huàn）脫鹽，使（shǐ）得（dé）產水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行集中控製。

四、技術特色
1、係統（tǒng）模塊化設計，占地麵積小（xiǎo），操作維護方便，安裝方便快捷，整體（tǐ）美（měi）觀。
2、整套係統實現全自動化運行，並且手動與自動自由切換。
3、設備（bèi）產水水質穩定，運行連續穩定（dìng）。
4、係統工藝（yì）先進，無需化學藥品再生（shēng），無（wú）危害性廢（fèi）液排放。
5、係統節水率（lǜ）高，係統回收率在75%以上。
6、關鍵部位采用在線儀表（biǎo）監測，適時數據上傳。
五、設備（bèi）參數
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一級反（fǎn）滲透≥75%
        二級反滲（shèn）透（tòu）≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產水符合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美（měi）國半導體工業純水指標。
3、單（dān）支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。